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上海子微智能科技有限公司
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郵箱：tx_68@163.com
網(wǎng)址：http://www.worldinternetsummit.cn/
公司地址：上海市嘉定區(qū)楊林路575號D座
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1. 簡介
多腔室超高真空薄膜沉積系統(tǒng)的主要用途是進(jìn)行高質(zhì)量、多工藝薄膜的制備和研究?。這種系統(tǒng)通常用于物理學(xué)和材料科學(xué)領(lǐng)域，特別是在需要高純度和均勻性的薄膜沉積過程中。多腔室設(shè)計允許在不同的真空腔室中進(jìn)行獨立的真空獲得和檢測，通過樣品傳遞腔室連接后，各腔室間的樣品傳遞可以在超高真空環(huán)境中完成，從而避免了樣品直接暴露于空氣中，減少了污染和氧化，確保了薄膜的高質(zhì)量?。
ZPVD cluster系列多腔室超高真空鍍膜系統(tǒng)可以根據(jù)需要搭配不同的工藝腔室和不同工藝功能，工藝多樣，靈活方便，是科研前沿功能器件研發(fā)、小批量生產(chǎn)的得力工具。
2. 功能、特點
超高真空性能，極限真空度達(dá)6.67×10-8Pa；
可組合多種工藝：磁控濺射/電子束蒸發(fā)/熱蒸發(fā)/原子層沉積；
多種功能可選：等離子清洗/襯底退火/氧化等；
最薄膜層厚度：≤1nm；
支持射頻反應(yīng)濺射；
離子源輔助沉積（可選）
Load-lock（可選）
智能操控界面及客戶自主的工藝配方設(shè)定
可自動保存工藝數(shù)據(jù)
膜層致密、均勻，性能優(yōu)異
可研發(fā)、試生產(chǎn)完整功能器件
3. 可選膜層材料
金屬（包括貴金屬、稀有金屬）、氧化物、氮化物、陶瓷等；
4. 適用行業(yè)領(lǐng)域
自旋邏輯器件
巨磁電阻和磁性材料
隧道結(jié)和約瑟夫森結(jié)
超導(dǎo)量子干涉器件（SQUID）
超導(dǎo)量子比特芯片
太陽能電池（PV、OPV）
半導(dǎo)體
傳感器等
5. 機(jī)型圖
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