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上海子微智能科技有限公司
聯(lián)系人：譚經(jīng)理
聯(lián)系方式：13916909939
聯(lián)系電話：021-69528661（傳真）
郵箱：tx_68@163.com
網(wǎng)址：http://www.worldinternetsummit.cn/
公司地址：上海市嘉定區(qū)楊林路575號(hào)D座
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1. 簡(jiǎn)介
二維膜材料是指厚度在1到幾個(gè)原子層之間的薄膜材料，這些材料在垂直于表面的方向上具有極小的厚度。由于其超薄的特性，二維膜材料在電子、光學(xué)磁學(xué)和機(jī)械性能等方面表現(xiàn)出與傳統(tǒng)材料不同的性質(zhì)，這些獨(dú)特的性能使得二維膜材料在電子器件、自旋電子學(xué)、磁性材料、超導(dǎo)材料、量子器件、儲(chǔ)能材料、傳感器、半導(dǎo)體器件等領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景，也是各大研究機(jī)構(gòu)研究的熱點(diǎn)。
ZPVD ultrTD系列二維膜超高真空鍍膜機(jī)是我公司開(kāi)發(fā)的專為二維膜制備應(yīng)用的高性能薄膜沉積平臺(tái)。主要是以直流磁控濺射和射頻反應(yīng)濺射工藝制備高性能二維膜，配合我公司研發(fā)的智能操控界面和工藝控制軟件，是高校研究所、研發(fā)公司進(jìn)行二維膜研究的理想工具。
2. 功能、特點(diǎn)
超高真空性能，極限真空度達(dá)6.67×10-8Pa；
最薄膜層厚度：≤1nm；
*支持12個(gè)磁控靶，磁控靶可選強(qiáng)磁或標(biāo)準(zhǔn)磁場(chǎng)
支持射頻反應(yīng)濺射；
旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái)可加熱、可致冷、可加偏壓（可選）
離子源輔助沉積（可選）
Load-lock（可選）
智能操控界面及多種工藝流程控制
可自動(dòng)保存工藝數(shù)據(jù)
膜層致密、均勻，性能優(yōu)異
3. 可選膜層材料
Al2O3、SiO2、 TiO2、 ZrO2、Ta2O5、Nb2O5、AZO、WS2、MoS2、ZnS、MgO………
4. 型號(hào)規(guī)格配置及性能
項(xiàng)目 | 規(guī)格 | *數(shù)量 | 可選項(xiàng) |
UHV磁控濺射陰極 | 2、3、4吋 | 12個(gè) | 強(qiáng)磁陰極 |
電源 | DC、PDC、RF | 根據(jù)電源數(shù)量 | 電源轉(zhuǎn)換器 |
旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái) | ≤200mm，2～6'' | 1臺(tái) | 偏壓、升降、加熱、冷卻 |
射頻清洗 | 500W RF | 1臺(tái) | 可選 |
離子源 | 1000W | 1臺(tái) | 可選 |
Load-lock和進(jìn)樣腔 | 500～1500mm | 2套 | 可選 |
極限真空度 | 5.0×10-10torr | ||
抽氣速度 | 大氣到5.0×10-4Pa | 25min | |
漏率 | 2.0×10-11torr·L/S | ||
膜層均勻性 | ±3% |
4. 適用行業(yè)領(lǐng)域
自旋電子學(xué)
巨磁電阻和磁性材料
隧道結(jié)和約瑟夫森結(jié)
半導(dǎo)體
傳感器等
5. 機(jī)型圖
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