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@MP系列精密磁控濺射鍍膜機

1.功能特點

高性能磁控濺射陰極；

離子源輔助沉積；

在線膜厚監(jiān)控，精確控制膜層厚度，不均勻性小于±3%；

高品質(zhì)真空系統(tǒng)及電源；

射頻等離子清洗；

公自轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)架；

智能操控界面及工藝流程；

可自動保存工藝數(shù)據(jù)

2.膜層材料

Cu、Al、Ag、Au、Ni、Cr、Ti、Nb等；

3.典型應用

半導體導電層薄膜沉積工藝；

傳感器（位移傳感器、聲學傳感器等）功能薄膜工藝；

精密光學鍍膜；

4.行業(yè)應用

半導體、傳感器、電子、精密光學、智能汽車、航空航天；

5.規(guī)格概要